Научный мир снова на пороге потрясающих открытий! 🎉 Российские ученые сделали невероятный шаг вперед в разработке технологий для микроэлектроники. 🌟 Они создали устойчивую и плотную плазму, которая великолепно подходит для генерации экстремального ультрафиолетового излучения (ЭУФ) — это настоящая находка для последующей разработки литографов нового поколения.
Четверг, 19 Июня 2025, 13:30
Об этом событии рассказали в пресс-службе Института ядерной физики СО РАН. Основой для достижения стал уникальный лазер, способный производить непрерывный терагерцевый лазерный разряд. Этот прибор охватывает режим генерации излучения, который больше нигде в мире не представлен! 🔬
Жизнь современного человека уже невозможно представить без микроэлектроники, в частности, без полупроводников. Однако с уменьшением размеров элементов микросхем возрастает потребность в новейших источниках излучения, способных обеспечить более высокое разрешение и точность. ЭУФ-излучение в диапазоне 13,5 нанометров пользуется наибольшим интересом для решения таких задач.
Плазма, созданная российскими физиками, имеет все характеристики, необходимые для работы в литографических установках, что особенно актуально для развития отечественной микроэлектронной промышленности. Виталий Кубарев, исследователь из института, подчеркнул, что их команде удалось успешно стабилизировать и ограничить объем плазмы. Это стало возможным благодаря использованию импульсно-периодического терагерцевого излучения.
Теперь, когда плотность и размеры полученной плазмы находятся в оптимальных диапазонах, ученые могут с гордостью планировать увеличение её мощности в два-четыре раза! 🔧
Скоро нас ждет модернизация новосибирского лазера на свободных электронах, который функционирует в ИЯФ СО РАН. Это увеличение мощности не только открывает новые перспективы для технологий, но и увеличивает спектр применения плазмы в различных областях.
В качестве рабочего вещества предполагается использование